ASML突破性专利:用机器学习提高扫描电镜成像质量

来源:华体app官方入口网站    发布时间:2025-04-11 02:52:36

  金融界报导,2025年1月11日,荷兰科技巨子ASML宣告成功获得一项重要专利,专心于“使用机器学习从原始图画主动挑选高品质均匀扫描电镜图画”。这项专利的授权公告编号为CN112602020B,请求时刻能追溯到2019年7月。

  在快速开展的半导体职业中,扫描电镜(SEM)是一种至关重要的东西,它协助研讨人员和工程师调查和剖析微观结构。而这个新专利则意味着,未来的成像进程将更高效与智能化,可以有用挑选高质量的图画并主动化处理,极大地提高试验和研讨的功率。

  该专利的获得不只展现了ASML在技能前沿的立异才能,更将在整个半导体范畴发生深远影响,推进职业向更精细、更智能的方向开展。一起,跟着机器学习技能的不断老练,怎么将其使用于科学研讨和工业生产,将成为一个十分重视的热点话题。

  总的来说,ASML这一新专利的获得,标志着科技与工业界进一步交融的里程碑,也为未来更广泛的使用场景铺平了路途。回来搜狐,检查更加多

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